景德镇张宪涛律师网-国家知识产权局集成电路布图设计登记申请表填表须知

国家知识产权局集成电路布图设计登记申请表填表须知

一、申请表：需提交一式两份。一份为原本，一份为复印件。并要求使用中文填写，表中文字应当打字或者印刷，字迹为黑色。

二、布图设计名称：应填写集成电路型号。例如：NJM12902。

三、申请号和申请日：由国家知识产权局填写。

四、集成电路分类：结构 Bipolar：双极；MOS：金属－氧化物－半导体；Bi-MOS：双极－金属－氧化物－半导体；Optical-IC：集成光路；其他：不包括上述四类的结构。技术 TTL：晶体管－晶体管逻辑电路；

DTL：二极管－晶体管逻辑电路；

ECL：发射极耦合逻辑电路；

IIL: 集成注入逻辑电路；

其他：不包括在上述四种之内的技术。功能逻辑；存储；微型计算机；线性；其他。以上（1）（2）（3）三类，每一类中最多只能选择一种，并在内打“×”。

五、布图设计创作人：可以是自然人、法人或者其他组织。

六、完成创作日期：完成设计日。

七、首次商业利用日：首次投入商业利用之日。

八、申请人：申请人是单位的应填写单位全称,并与公章中名称一致。申请人是个人的，应填写本人真实姓名，不得写笔名。申请人为多个，又未委托代理机构，填写在第一栏的申请人为第一署名申请人。申请人为单位的还应填写单位联系人姓名。

九、申请人地址：国内地址应写明省、市、区、街道、门牌号码、邮政编码。外国人地址应写明国别、州（市、县）。

十、申请文件清单：除申请表一式两份，其余文件均为一式一份，凡是图纸应使用计算机制图。其他图纸或复制件、文件、样品清单与所附清单严格一致。

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